极紫外 (EUV) 激光器
极紫外 (EUV) 光刻技术利用一种名为 CO2 激光器的特殊激光器产生 EUV 光。该工艺在半导体器件制造中至关重要，能够在硅片上创建极其精细的图案。
工作原理
CO2 激光器产生红外光，然后将其导入含有锡液滴的腔室。激光与锡液滴相互作用，产生波长约为 13.5 nm 的 EUV 光。
CO2 激光器和 EUV 光的产生
CO2 激光器的效率和功率对 EUV 光刻性能至关重要。该工艺包括：
由于其技术复杂性和产生 EUV 光的挑战性，EUV 光刻系统是半导体制造行业中最先进、最复杂的系统之一。
