超低损耗光纤纳米锥

引文

Brambilla, Gilberto, Vittoria Finazzi 和 David J. Richardson。“超低损耗光纤纳米锥。”《光学快报》，第12卷，第10期，2004年5月17日，第2258-2263页。

关键词

• 光纤纳米锥
• 亚波长直径
• 低损耗
• 光纤纳米器件
• 锥度均匀性1
• 表面粗糙度
• 传输损耗
• 超连续谱产生
• 两步拉丝工艺
• 绝热锥度
• 弯曲损耗
• 倏逝场
• 光束传播
• 扫描电子显微镜 (SEM)
• 纳米光子元件

简介

超低损耗光纤纳米锥可使用传统的光纤锥化装置结合简单的燃烧器配置来制作。

摘要

本文介绍了一种使用传统的光纤锥化装置和清洁稳定的燃烧器火焰来制作低损耗光纤纳米锥的方法。作者报告称，他们的方法制备的纳米锥具有优异的均匀性和比以往报道更低的损耗，为新型纳米光子元件的开发铺平了道路。

• 先前制备纳米锥的方法，例如两步拉伸工艺，会导致结构轮廓不规则，在光学应用中的实用性有限。
• 作者的方法使用小而稳定的火焰加热光纤的一小块区域，然后通过两个平移​​台拉伸该区域以形成锥体。
• 火焰的清洁度和稳定性对于实现制备的纳米锥的低损耗至关重要。
• 作者发现，对于半径为 130-150nm 的纳米锥，动态损耗（在制备过程中测量）高于静态损耗（在制备后测量），这可能是由于锥化过程中的弯曲损耗造成的。
• SEM 图像证实了使用该方法制备的纳米锥具有优异的均匀性。
• 作者总结道，他们的方法代表了低损耗纳米锥制造领域的重大进步，有望在光通信、传感、激光、生物和化学等多个领域得到广泛应用。

来源：https://opg.optica.org/directpdfaccess/803ecb0c-9af0-480f-b5260949f61502e9_79941/oe-12-10-2258.pdf?da=1&id=79941&seq=0&mobile=no