High-Sensitivity and Long-Life Microchannel Plate Processed by Atomic Layer Deposition

采用原子层沉积技术制备高灵敏度、长寿命微通道板

引用

曹伟、朱斌、白晓、徐鹏、王斌、秦建、苟燕、雷锋、刘斌、郭建、朱建、白燕 (2019)。采用原子层沉积技术制备高灵敏度、长寿命微通道板。Nano Express，第 11 卷。https://doi.org/10.1186/s11671-019-2983-1 

关键词

  • 微通道板 (MCP)
  • 原子层沉积 (ALD)
  • 薄膜
  • 高稳定性
  • 长寿命

简介

原子层沉积 (ALD) 可用于在微通道板 (MCP) 内部涂覆 Al2O3，以提高 MCP 的灵敏度和寿命。

摘要

这篇发表于2019年《NANO EXPRESS》杂志的文章题为“原子层沉积制备高灵敏度长寿命微通道板”，由曹伟伟、朱炳利、白晓红、徐鹏、王博、秦军军、苟永胜、雷凡普、刘白宇、郭俊江、朱静平和白永林共同撰写，详细介绍了原子层沉积 (ALD) 作为后处理技术改进传统微通道板 (MCP) 的应用。

  • 传统 MCP 存在以下几个缺点：

1、高噪声化学蚀刻导致噪声系数增加；
2、真空烘烤和电子擦洗导致表面元素变化，并降低提取电荷/增益；
3、无法独立调节电阻和二次电子发射特性。

  • ALD 可以通过在 MCP 通道内沉积导电层和二次电子发射 (SEE) 层来改善这些缺点。
  • ALD 技术在 MCP 后处理中具有优势，因为：

1、它可以沉积高单电子发射率 (SEE) 材料，例如 Al(_2)O(_3)，从而提高 MCP 的增益。
2、它可以填充纳米级孔洞，改善表面粗糙度并延长 MCP 的使用寿命。

  • 作者发现，使用延伸前驱体模型进行 ALD 沉积可以获得比止流模型更均匀的涂层。
  • 8 纳米 Al(_2)O(_3) 涂层效果最佳，与传统 MCP 相比，其输出电流提高了五倍。
  • 在高功率照明测试后，ALD-MCP 表现出比传统 MCP 更优异的使用寿命。

来源：https://link.springer.com/article/10.1186/s11671-019-2983-1

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