Microchannel plate fabrication using glass capillary arrays with Atomic Layer Deposition films for resistance and gain

抵抗とゲインのための原子層堆積膜を備えたガラスキャピラリーアレイを使用したマイクロチャネルプレートの製造

引用

Popecki, MA, et al. (2016)、抵抗とゲインのための原子層堆積膜を備えたガラスキャピラリーアレイを使用したマイクロチャネルプレートの製造、 J. Geophys. Res. Space Physics 、 121、7449–7460 、doi:10.1002/2016JA022580。

キーワード

  • 原子層堆積法（ALD）
  • マイクロチャネルプレート (MCP)
  • ガラス毛細管アレイ
  • 二次電子放出（SEE）
  • 得
  • 抵抗
  • 一生
  • 空間の均一性
  • 湾曲したMCP
  • 温度依存性

簡単な

ガラスキャピラリーアレイ基板と ALD フィルムを組み合わせた原子層堆積 (ALD) マイクロチャネルプレート (MCP) は、宇宙機器での使用において従来の MCP に比べていくつかの利点があります。

まとめ

この記事では、画像増強や UV 検出などのさまざまな用途で使用されるマイクロチャネル プレート (MCP) の製造について説明します。原子層堆積 (ALD) は、ガラス キャピラリー アレイを使用して MCP を製造する新しい方法です。

従来法で製造された MCP と比較した ALD 製造 MCP の主な利点は次のとおりです。

  • ALD MCP を使用すると、製造元は MCP のガラス、抵抗、および放射特性を個別に選択できます。
  • ALD MCP は、曲面または非平面の形状で簡単に作成できます。
  • ALD MCP で使用されるホウケイ酸ガラスには放射性物質の含有量が低いため、バックグラウンド率が低くなります。
  • ALD MCP で使用されるガラス基板は、堅牢性を強化するように設計できます。
  • ALD MCP は、その寿命を通じて持続的に高いゲインを発揮します。
  • ALD MCP は、抽出された総電荷が 7 C/cm2 であることを実証しました。

この記事では、チャネル径、バックグラウンドカウント、二次電子収量、ゲイン、抽出電荷などの特性に関して、ALD と従来の MCP の現在の最先端技術についても説明します。

出典: https://agupubs.onlinelibrary.wiley.com/doi/pdf/10.1002/2016JA022580

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