Study of the Electric Field inside Microchannel Plate Multipliers

マイクロチャネルプレートマルチプライヤ内の電界の研究

引用

「マイクロチャネル プレート マルチプライヤ内部の電界の研究」、著者: E. Gatti、K. Oba、および P. Rehak。この論文は、ワシントン DC で開催された 1982 年核科学シンポジウムの寄稿論文です。シンポジウムは 1982 年 10 月 20 日から 22 日まで開催されました。

キーワード

  • マイクロチャネルプレートマルチプライヤ (MCP)
  • 電界
  • パルスバイアステンション
  • 高レート条件
  • 正イオンフィードバック
  • チャンネル充電時間
  • バルク伝導率
  • アフターパルシング

簡単な

提供されている情報源は、特にパルスバイアス電圧と高レート条件下でのマイクロチャネルプレートマルチプライヤ内の電界に焦点を当てており、Peter Wurz と Lukas Gubler による記事「粒子用の高速マイクロチャネルプレート検出器」の要約は含まれていません。

まとめ

この記事では、特にパルス条件および高動作率でのマイクロチャネルプレートマルチプライヤ (MCP) のパフォーマンスを理解する上で重要な、MCP 内部の電界に関する研究を紹介します。

  • 研究者らは、電圧が印加されると、MCP チャネル内の電界が初期角度から定常状態まで回転することを発見しました。
  • この回転が発生するのにかかる時間は、MCP の単純な RC 回路モデルに基づいて予想される時間よりもはるかに長くなります。
  • 研究者らは、標準的な MCP のゲインを制限する正イオンフィードバックのない MCP を操作する新しい方法を実証しました。
  • この方法では、電界の回転時間に合わせたデューティ サイクルで MCP に印加される電圧をパルス化します。
  • 彼らはまた、MCP チャネル内の電界に対する増殖プロセスの影響を調査し、チャネルが再充電されるのにかかる時間が単純な RC モデルで予測される時間よりもはるかに長いことを発見しました。
  • 著者らは、導電性チャネル壁を備えた MCP は、チャネル内の電荷蓄積の中和に放射状電流が寄与するため、速度能力が向上する可能性があると示唆しています。

出典: https://digital.library.unt.edu/ark:/67531/metadc1200227/m2/1/high_res_d/6610740.pdf

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