EUV에는 어떤 레이저가 사용되나요?

극자외선(EUV) 레이저

극자외선(EUV) 리소그래피는 CO2 레이저 라는 특정 유형의 레이저를 활용하여 EUV 광을 생성합니다. 이 공정은 반도체 장치 제조에 매우 중요하므로 실리콘 웨이퍼에 매우 미세한 패턴을 생성할 수 있습니다.

작동 원리

CO2 레이저는 적외선을 생성하고, 이 빛은 주석 방울이 들어 있는 챔버로 전달됩니다. 레이저 광과 주석 방울 사이의 상호 작용으로 인해 약 13.5nm 파장의 EUV 광이 방출됩니다. 이 파장은 기존의 심자외선(DUV) 리소그래피보다 훨씬 짧아서 더 작고 복잡한 반도체 장치를 만들 수 있습니다.

CO2 레이저 및 EUV 생성

CO2 레이저의 효율성과 출력은 EUV 리소그래피 성능에 매우 중요합니다. 프로세스에는 다음이 포함됩니다. - 주석 방울 주입과 레이저 펄스를 동기화하는 정밀한 타이밍. - 충분한 양의 EUV 광이 생성되도록 보장하는 고출력 CO2 레이저.

기술적 복잡성과 EUV 광 생성의 어려움으로 인해 EUV 리소그래피 시스템은 반도체 제조 산업에서 가장 진보되고 정교한 시스템 중 하나입니다.