이중 통과 이중 단계 구성에 기반한 광 순환기 및 파이버 루프 미러를 사용한 고 에르븀 도핑 ASE 소스

소환

Xiang-tao Lee, Sheng-peng Wan, Hong-rong Shen, "이중 패스 이중 단계 구성에 기반한 광 순환기와 파이버 루프 미러를 사용한 고에르븀 첨가 ASE 소스", SPIE 논문집 Vol. 6781, 수동 부품 및 파이버 기반 장치 IV , 67812X(2007), doi: 10.1117/12.746804.

키워드

• 고에르븀 도핑
• 증폭된 자발 방출(ASE)
• ASE 소스
• 광순환기
• 파이버 루프 미러(FLM)
• 더블 패스 더블 스테이지 구성
• 에르븀 도핑 광섬유(EDF)
• C-밴드
• L-밴드
• 980nm 펌핑
• 3dB 선폭
• 출력 전력
• 스펙트럼 파워
• 스펙트럼의 평범함
• FBG 센서
• 광섬유 자이로스코프
• DWDM 시스템
• 옵티시스템 3.0
• 광 스펙트럼 분석기(OSA)

짧은

본 논문에서는 광 순환기와 두 개의 파이버 루프 거울을 사용한 이중 통과 이중 단계 구성을 활용하여 넓은 대역폭과 향상된 출력 전력을 달성하는 고 에르븀 도핑 증폭 자발 방출(ASE) 소스를 실험적으로 제시합니다.

요약

본 논문에서는 광 순환기 와 두 개의 광섬유 루프 미러(FLM)를 결합한 이중 통과 이중 스테이지 구성을 사용하여 고전력 및 광대역폭 증폭 자발 방출(ASE) 광원을 실험적으로 시연합니다 . 이 설계는 고농도 에르븀 첨가 광섬유(4000ppm)를 사용하여 C 및 L 대역(1526~1611.3nm)에 걸쳐 85.3nm의 3dB 대역폭 으로 0.79dBm 이상의 출력 전력을 달성합니다 . 이 소형 ASE 광원은 광섬유 브래그 격자(FBG) 센서, 광섬유 자이로스코프, DWDM 시스템 등에 적합합니다 . 시뮬레이션 결과는 더 넓은 대역폭과 더 높은 출력 전력의 가능성을 시사합니다.

출처: https://sci.bban.top/pdf/10.1117/12.746804.pdf#