High-Sensitivity and Long-Life Microchannel Plate Processed by Atomic Layer Deposition

원자층 증착법으로 가공된 고감도 및 장수명 마이크로채널 플레이트

소환

Cao, W., Zhu, B., Bai, X., Xu, P., Wang, B., Qin, J., Gou, Y., Lei, F., Liu, B., Guo, J., Zhu, J., & Bai, Y. (2019). 원자층 증착법으로 처리된 고감도 및 장수명 마이크로채널 플레이트. 나노익스프레스, 11 . https://doi.org/10.1186/s11671-019-2983-1

  • 마이크로채널 플레이트(MCP)
  • 원자층 증착(ALD)
  • 얇은 필름
  • 높은 안정성
  • 긴 수명

짧은

원자층 증착(ALD)을 사용하면 마이크로채널 플레이트(MCP) 내부를 Al2O3로 코팅하여 MCP의 감도와 수명을 향상시킬 수 있습니다.

요약

NANO EXPRESS 의 2019년 기사 " 원자층 증착으로 처리된 고감도 및 장수명 마이크로채널 플레이트 " 작성자: Weiwei Cao, Bingli Zhu, Xiaohong Bai, Peng Xu, Bo Wang, Junjun Qin, Yongsheng Gou, Fanpu Lei, Baiyu Liu , Junjiang Guo, Jingping Zhu 및 Yonglin Bai는 전통적인 마이크로채널 플레이트(MCP)를 개선하기 위한 후처리 기술로 원자층 증착(ALD)의 사용을 자세히 설명합니다.

  • 기존 MCP에는 다음과 같은 몇 가지 단점이 있습니다.
  1. 노이즈 요인이 증가하는 고노이즈 화학적 에칭.
  2. 진공 베이킹 및 전자 스크러빙으로 표면 요소 변화가 발생하고 추출된 전하/이득이 감소합니다.
  3. 전기 저항과 2차 전자 방출 특성을 독립적으로 조정할 수 없습니다.
  • ALD는 MCP 채널 내부에 전도성 층과 SEE(2차 전자 방출) 층을 증착하여 이러한 단점을 개선할 수 있습니다.
  • ALD는 다음과 같은 이유로 MCP 후처리에 유리합니다.
  1. Al(_2)O(_3)와 같은 높은 SEE 재료를 증착하여 MCP의 이득을 향상시킬 수 있습니다.
  2. 나노 크기의 구멍을 채워 표면 거칠기를 개선하고 MCP의 수명을 늘릴 수 있습니다.
  • 저자는 ALD 증착을 위해 확장된 전구체 모델을 사용하면 정지 흐름 모델보다 더 균일한 코팅이 가능하다는 사실을 발견했습니다.
  • Al(_2)O(_3)의 8nm 코팅은 최적이었고 기존 MCP에 비해 출력 전류가 5배 증가했습니다.
  • ALD-MCP는 고전력 조명 테스트 후 기존 MCP에 비해 더 나은 수명 성능을 보여주었습니다.

출처: https://link.springer.com/article/10.1186/s11671-019-2983-1

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