신틸레이터의 측정된 펄스 높이 스펙트럼으로부터 깊이에 따른 빛 탈출 효율 및 광학적 스웽크 인자 도출

소환

Howansky 외, 2017

아드리안 호완스키(Adrian Howansky), Boyu Peng, Anthony R. Lubinsky, Wei Zhao. "신틸레이터의 측정된 펄스 높이 스펙트럼으로부터 깊이에 따른 빛 탈출 효율과 광학적 스웽크 인자를 도출합니다." 의학물리학 , vol. 44, 아니. 2017년 2월 2일, 57~74페이지.

키워드

• 요오드화 세슘
• 디지털 방사선 촬영
• 간접적인 탐지
• 펄스 높이 분광법
• 스웽크 팩터

짧은

이 기사에서는 펄스 높이 분광법을 사용하여 신틸레이터의 깊이에 따른 빛 탈출 효율과 광학 스웽크 인자를 측정하는 방법을 논의하며, 특히 다양한 두께와 광학 설계를 갖춘 CsI 신틸레이터에 초점을 맞췄습니다.

요약

Medical Physics 에 게재된 이 기사에서는 신틸레이터의 깊이에 따른 빛 탈출 효율과 광학적 스웽크 계수를 계산하는 새로운 방법을 설명합니다. 저자는 반사 뒷면이나 광섬유 플레이트의 존재와 같은 신틸레이터의 광학 설계가 이러한 특성을 결정하는 주요 요소라는 것을 발견했습니다. 신틸레이터의 두께는 덜 중요한 영향을 미치는 것으로 밝혀졌습니다. 저자들은 그들의 발견이 의료 영상에 사용하기 위한 신틸레이터의 설계를 개선하는 데 사용될 수 있다고 제안합니다.

출처: https://www.ncbi.nlm.nih.gov/pmc/articles/PMC5573598/